该系列镀膜机为多层精密光学薄膜的制备而设计,严格遵循电子束蒸发制 备多层膜优化物理模型。充分考虑生产工艺要求,适合镀制30 ~100层复杂膜系。性价比高。是专业光学薄膜制备企业的理想选择。
特点和优势
配备蒸发分布稳定的E型电子枪, 配备大功率、高离化率等离子体源 或射频离子束源。经过科学优化的内部结构设计更合理, 可加装工件架上膜厚测控系统。
镀膜机主要配置